株式会社 菅製作所

スパッタ装置,PEEM,ALD,スペースチャンパー,真空装置,加熱炉,蒸着装置,機械加工,有機EL装置,
真空溶接,金属加工の設計・製造・販売は北海道 函館 北斗市 札幌市の菅製作所にお任せ下さい。

研究開発トップ 装置 コンポーネント セール テクノロジー コンタクト リクルート
 
    株式会社菅製作所ホーム  
装置

ALD

卓上型ALD装置 SAL1000B(粉体用)

卓上型ALD装置 SAL1000B(粉体用)
SAL1000B 粉体用ALD装置
卓上型ALD装置 SAL1000B(粉体用)
φ40μm Ni粉体へのAl2O3成膜
  (光学顕微鏡観察)

SAL1000Bは粉体へ原子層堆積法による成膜を行える、卓上設置可能な研究開発用の小型ALD装置です。
粉体容器の振動・回転と装置全体の傾斜が効率良く粉体を撹拌することで、粉体全面への成膜を可能にしました。
反応性の高い試料やナノパーティクル吸入防止のためのグローブボックスを取り付けることも可能ですので、
触媒や燃料電池等の研究にもご活用いただけます。

 原子層堆積法:Atomic Layer Deposition(ALD法)


SAL1000B動画URL
https:// youtu.be/ eFXIXP0UsVA

SAL1000B 粉体用ALD装置




  掲載されている情報はすべて株式会社菅製作所が著作権を有しています。